[TechWeb]在当前的芯片制造领域中，高级过程（尤其是低于7 nm）基本上是基于紫外线光刻机器EUV EVER ASML的Extreme。传统认可表明，在没有EUV光刻机器的情况下创建高素质的芯片很困难。但是，最近有最后一刻的消息。不久前，有报道称，5 nm的“特殊”技术已在全球范围内出现。该5NM使用完全不同的技术途径来智能地避免对EUV光刻机器的依赖。使用通道扫描光刻机器，通过多个展览来实现5 nm线的宽度。在芯片制造过程中，光刻机是最中心的设备。它的主要功能是将电路模式投影在硅晶圆中，上面覆盖有光学系统的光子覆盖的硅晶圆，并在光电阻力中形成精细的图案，例如在TH中绘制电路图的“画家”E硅晶圆。完成光刻后，雕刻机将假设纸张。据指出，这次使用的5 nm雕刻设备的精度达到了原子水平，并且雕刻速度比上一个水平高15％。雕刻机主要使用以光刻计算机标记的模式，化学或物理作用会导致不受光子保护的硅晶片中的过量材料来腐蚀，从而留下与类似于“放大倍数”的半导体设备形成连接模式所需的必要部分。此外，测量仪器使用新的电子束测量系统，可以替代NM水平缺陷。这种“不同的方法”方法鼓励了整个工业链的发展，包括半导体设备，材料和设计工具。也许将来，该方法可用于创建3NM芯片。绝对值得等待。